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改進(jìn)研發(fā)鈦合金件內(nèi)外雙靶材磁控濺射鍍鋁設(shè)備
發(fā)布：2023-04-25
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鈦合金件內(nèi)外雙靶材磁控濺射鍍鋁設(shè)備改進(jìn)研發(fā)
真空離子鍍鋁過程無三廢即廢水、廢氣、廢渣產(chǎn)生，已成為廣泛研究的熱點(diǎn)。本文分析了真空離子磁控濺射鍍鋁設(shè)備原理結(jié)構(gòu)和設(shè)計(jì)流程，引入閉合磁場非平衡磁控濺射技術(shù)思路，對比直流單靶材磁控濺射和內(nèi)外雙靶材磁控濺射中的電磁場分布和等離子體分布，將 2 個(gè)直流內(nèi)單圓柱靶改制為 4 個(gè)磁極相對的內(nèi)外雙圓柱靶結(jié)構(gòu)，構(gòu)建內(nèi)靶磁場和外靶磁場相反的閉合磁場，研發(fā)滿足涂層綜合性能要求且適于批量生產(chǎn)的鍍鋁設(shè)備，助推國內(nèi)新型裝備高質(zhì)量發(fā)展和清潔節(jié)能生產(chǎn)。
넶100 2022-03-04
發(fā)布：2023-03-20
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磁控濺射制備Ta-Cr非晶合金鍍層及其性能
本文采用真空磁控濺射法，采用雙靶共濺射法，通過調(diào)節(jié)濺射功率制備了不同鉭含量的Ta-Cr二元非晶合金涂層，并對涂層的表觀形貌和物理性能進(jìn)行了研究。研究過。的特征。研究了鉭含量對涂層力學(xué)性能和耐腐蝕性能的影響。
넶590 2023-03-20
發(fā)布：2023-03-03
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不銹鋼基片鍍ZnO薄膜的工藝與研究
ZnO作為一種新型的光電材料，在光波導(dǎo)、半導(dǎo)體紫外激光器、發(fā)光器件、壓電傳感器和透明電極等方面有著廣泛的應(yīng)用本文綜述了在不銹鋼襯底上制備ZnO薄膜的方法和工藝......
넶102 2023-03-03
發(fā)布：2023-01-29
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陶瓷靶材（氧化鋅鋁ZAO）制備及其薄膜性能研究
研究了ZAO靶材與無氧銅的粘接性能、ZAO靶材與無氧銅的粘接性能。通過溶膠、凝膠方法制備的ZnO和Al2O3混合粉末經(jīng)冷壓預(yù)成型加真空低壓燒結(jié)，制備了高致密度(相對密度99％)、低成本的ZAO陶瓷靶材。用中頻交流磁控濺射ZAO靶材的工藝制備了ZAO薄膜。利用SEM掃描電鏡和XRD分析測試了陶瓷靶材斷口形貌以及靶材和薄膜的結(jié)構(gòu)。
넶110 2023-01-29
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